装置紹介

杉本研究室で使用している装置の紹介

装置リスト

高周波溶解炉

01
  • I.製作装置
  • >
  • 1.溶解、鋳造
  • >
  • (1)
高周波溶解炉
交流電流に接続されたコイルの中に試料を挿入し、渦電流を発生させ、ジュール熱を生じさせることで試料を非接触のまま加熱、融解させる装置。

液体急冷凝固装置

02
  • I.製作装置
  • >
  • 1.溶解、鋳造
  • >
  • (2)
液体急冷凝固装置
液体急冷法により急冷薄帯および薄片金属を作製できる装置。

遊星型ボールミル

03
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • a.マイクロ
  • >
  • (1)
遊星型ボールミル
セラミックなどの硬質のボールと、材料の粉末を円筒形の容器にいれて回転させることによって、材料をすりつぶして微細な粉末を作ることができる装置。

スパイラルジェットミル

04
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • a.マイクロ
  • >
  • (2)
スパイラルジェットミル
加圧された窒素ガスを使用して、粉末を微粉砕する装置。

少量ガスアトマイズ装置

05
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • a.マイクロ
  • >
  • (3)
少量ガスアトマイズ装置
不活性ガス雰囲気中で試料を加熱し,溶融金属に高圧ガスを吹き付けることにより金属粉末を作製する装置。

ナノ粒子生成装置 (APD)

06
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • b.ナノ
  • >
  • (1)
ナノ粒子生成装置 (APD)
ターゲットの表面でアーク放電を起こすことにより、ナノ粒子を作製する装置。

パージ型グローブボックス

07
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • b.ナノ
  • >
  • (2)
パージ型グローブボックス
不活性ガス雰囲気中で試料を取り扱う装置。試料の酸化を防ぐことが可能。

超微粒子作製装置

08
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • b.ナノ
  • >
  • (3)
超微粒子作製装置
水素プラズマ-金属反応法によって微粒子を得る装置。

放電プラズマ焼結装置 (SPS)

09
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • c.圧粉、焼結
  • >
  • (1)
放電プラズマ焼結装置 (SPS)
一般の焼結とは異なり,瞬間的に大電流を流し焼結する装置。一般の焼結では困難な粉末も焼結できる。

磁場中プレス

10
  • I.製作装置
  • >
  • 2.粉末
  • >
  • c.圧粉、焼結
  • >
  • (2)
磁場中プレス
両端のコイルより磁場中でプレスする装置。磁場配向させることができるので,異方性磁石の作製に用いる。

コンパクトスパッタ

11
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (1)
コンパクトスパッタ
レシピ入力によるプロセス自動制御が可能なスパッタリング装置。複数のカソードによる同時成膜が可能。

六元ヘリコンスパッタ装置

12
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (2)
六元ヘリコンスパッタ装置
酸化膜室を付帯したスパッタリング装置。10×10 mm基板を一回で最大9枚まで成膜可能。

DC及びRFスパッタリング装置

13
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (3)
DC及びRFスパッタリング装置
低真空度での成膜に使用。

分子線エピタキシー及びスパッタリング装置

14
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (4)
分子線エピタキシー及びスパッタリング装置
分子線エピタキシーとスパッタの二種の方法で成膜が可能。現在メンテナンス中。

分子線エピタキシー装置

15
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (5)
分子線エピタキシー装置
単原子層レベルの成膜が可能。ヘテロ接合などの混晶半導体単結晶薄膜も成膜することができ、半導体分野の研究に活用。

斜入射スパッタリング装置

16
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (6)
斜入射スパッタリング装置
真空排気・基板搬送・成膜プロセス・基板の回収までを自動制御で行うことが可能。

スパッタリング装置FP-21 改造型

17
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.成膜
  • >
  • (7)
スパッタリング装置FP-21改造型
アモルファス膜のスパッタも可能。

終点検知器(EPD)搭載イオンミリング

18
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.微細加工
  • >
  • (1)
EPD搭載イオンミリング
終点検知機能により、積層膜のミリングされる層の制御が可能。

電子線リソグラフィ(マテリアル開発系共通装置)

19
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.微細加工
  • >
  • (2)
電子線リソグラフィ
最大100 mmウェハまで装着可能。2段対物レンズ方式により、サブミクロンサイズ用描画機能と、超極微細描画機能の共有が可能。

マニュアルマスクアライナー

20
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.微細加工
  • >
  • (3)
マニュアルマスクアライナー
赤外線フォトリソグラフィ用のレチクルのアライナーとして使用。

反応性プラズマエッチング装置

21
  • I.製作装置
  • >
  • 3.薄膜
  • >
  • a.微細加工
  • >
  • (4)
反応性プラズマエッチング装置
N2, ArガスだけでなくBCl3, NH3, COガス等も流せるエッチング装置。

特殊ガス雰囲気対応ゴールドイメージ炉

22
  • I.製作装置
  • >
  • 4.熱処理
  • >
  • (1)
特殊ガス雰囲気対応ゴールドイメージ炉
近赤外線をゴールド反射ミラーによって焦点に集光することで試料を加熱する装置。

高温ガス雰囲気炉

23
  • I.製作装置
  • >
  • 4.熱処理
  • >
  • (2)
高温ガス雰囲気炉
抵抗加熱式の熱処理装置。

特殊ガス対応チューブ炉

24
  • I.製作装置
  • >
  • 4.熱処理
  • >
  • (3)
特殊ガス対応チューブ炉
特殊ガス雰囲気下で熱処理を行う装置。

雰囲気制御熱処理炉

25
  • I.製作装置
  • >
  • 4.熱処理
  • >
  • (4)
雰囲気制御熱処理炉
不活性ガス雰囲気下で材料の熱処理ができる装置。急冷が可能。

磁場中熱処理装置

26
  • I.製作装置
  • >
  • 4.熱処理
  • >
  • (5)
磁場中熱処理装置
試料に磁場を印加しながら熱処理を行う装置。

ファインカッター

27
  • I.製作装置
  • >
  • 5.その他
  • >
  • (1)
ファインカッター
砥石(カッター)を回転させ、母材を切断できる装置。

手動油圧ポンプ

28
  • I.製作装置
  • >
  • 5.その他
  • >
  • (2)
手動油圧ポンプ
試料に最大で69.6 MPaの圧力をかけ圧粉体を作製することができる装置。

卓上ミニ旋盤(ミーリングアタッチメント付)

29
  • I.製作装置
  • >
  • 5.その他
  • >
  • (3)
卓上ミニ旋盤
母材を固定し回転させることにより、円柱状に削ることができる工作などではおなじみの装置。
30

卓上試料研磨機

  • I.製作装置
  • >
  • 5.その他
  • >
  • (4)
卓上試料研磨機
研磨紙を回転させることにより研磨を行う装置。

超音波ワイヤボンダ

31
  • I.製作装置
  • >
  • 5.その他
  • >
  • (5)
超音波ワイヤボンダ
超音波を用いて試料薄膜とアルミワイヤを接合させることが可能。

スクライバー

32
  • I.製作装置
  • >
  • 5.その他
  • >
  • (6)
スクライバー
基板を吸引して固定し、マイクロメータのついたダイヤモンド針を用いて基板を精密にけがく装置。

直流自記磁束計

33
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • a.バルク
  • >
  • (1)
直流自記磁束計
M積分閉磁路方式の磁束計で、反磁場補正をせずに磁性材料の直流磁化特性が測定できる装置。

パルス励磁型BHカーブトレーサー

34
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • a.バルク
  • >
  • (2)
パルス励磁型BHカーブトレーサー
パルス状の磁場を試料に印加し,磁気特性を測定する装置。最大8Tの高磁場印加により,高保磁力試料の磁気特性を測定することが可能。

振動試料型磁力計(VSM)

35
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • b.粉末、薄膜
  • >
  • (1)
振動試料型磁力計(VSM)
均一磁界中におかれた試料を一定振動数及び一定振幅で単振動させ、検出コイルに誘起する誘導起電力により磁気特性を連続的に測定する装置。粉末や薄膜状の試料の測定が可能。

面内磁場プロ―バー

36
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • b.粉末、薄膜
  • >
  • (2)
面内磁場プロ―バー
薄膜試料面内方向に磁場を印加し、試料のスピン依存伝導特性の測定をする装置。

低温用面内磁場プロ―バー

37
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • b.粉末、薄膜
  • >
  • (3)
低温用面内磁場プロ―バー
薄膜試料面内方向に磁場を印加し、試料のスピン依存伝導特性の測定をする装置。

PPMS/VSM

38
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • b.粉末、薄膜
  • >
  • (4)
PPMS/VSM
室温から低温までの磁気特性、電気伝導特性の評価をする装置。

パルス励磁型着磁器

39
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 1.磁気特性
  • >
  • c.その他
  • >
  • (1)
パルス励磁型着磁器
パルス磁界により高磁界を発生させ試料を着磁する装置。

3D測定レーザー顕微鏡

40
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 2.組織観察
  • >
  • (1)
3D測定レーザー顕微鏡
非接触で試料を検査・測定可能な3Dレーザー顕微鏡。急峻な角度を持つ試料や反射率に差のある試料においても正確な測定が可能であり、加えて表面粗さや面膜厚の測定も可能。

エネルギー分散型X線分析装置付走査電子顕微鏡

41
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 2.組織観察
  • >
  • (2)
エネルギー分散型X線分析装置付走査電子顕微鏡
電子線を試料に当てた際に試料から出てくる電子の情報を基に試料表面の構造を観察することができる装置。EDSと合わせて使うことで試料の定量・定性分析が可能。

ベクトル磁区観察装置

42
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 2.組織観察
  • >
  • (3)
ベクトル磁区観察装置
磁気Kerr効果を利用して試料表面の磁区構造を観察する装置。磁極ユニットを交換することで面内および垂直方向の磁区観察が可能。

段差計

43
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (1)
段差計
1Å以下の分解能を持つ触針式の段差、表面粗さ、微細形状測定装置。

分析天秤

44
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (2)
分析天秤
アルキメデス法により密度を測定する装置。

示差走査熱量計(DSC)

45
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (3)
示差走査熱量計(DSC)
一定の熱を与えながら基準物質と試料の温度差を計測することによって、状態変化に伴う吸熱・発熱反応を測定する装置。

差動型示差熱天秤(TG-DTA)

46
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (4)
差動型示差熱天秤(TG-DTA)
試料と基準物質の温度を一定のプログラムに従って変化させながら、試料の吸発熱と質量変化を測定する装置。

フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR)

47
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (5)
フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR)
試料に赤外線を照射し分子の振動による赤外線吸収を測定することで、化合物の構造推定や定量を行う装置。

ゼータサイザー

48
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (6)
ゼータサイザー
動的光散乱法を用いて粒子径およびマイクロレオロジーを、光散乱電気泳動法を用いてゼータ電位を、静的光散乱法を用いて分子量を測定する装置。

レーザー回析式乾式粒度分布測定装置 HELOS & RODOS

49
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (7)
レーザー回析式乾式粒度分布測定装置
圧縮エアーを利用した分散方式により、乾式でサブミクロン微粉末の測定を可能としたレーザー回折式乾式粒度分布測定装置。測定対象物に応じて適正な分散器を選択可能。

酸素・窒素・水素分析装置

50
  • Ⅱ.評価装置
  • >
  • 3.緒特性
  • >
  • (8)
酸素・窒素・水素分析装置
試料中の酸素、窒素および水素の定量分析を行う装置。

装置リスト