| 熱処理装置 | 装置名 | 備考 |
| 真空熱処理炉 | 超高真空赤外線ランプ加熱装置 | |
| 真空熱処理炉 | 赤外線ランプ加熱装置（ULVAC RIKO製） | |
| 熱処理炉 ×３ | マッフル炉 | |
| 熱処理炉 （高温） | シリコニット炉 | 1700,1200℃くらいまで昇温可能 |
| 環境試験機 | 小型環境試験機（ESPEC製） | 温湿度制御可 |
| 真空装置＋電気炉 | 略称：超高真空装置 （TMP [排気速度520L/s] 搭載） | 石英管などを接続するタイプ |
| 薄膜作製 | 装置名 | 備考 |
| スパッタ成膜装置 | ヘリコンスパッタ (ULVAC製) | ３元同時スパッタ可能 |
| スパッタ成膜装置 | 超高真空小型３元スパッタ装置（ULVAC製） | |
| スパッタ成膜装置 | ３元同時スパッタ可能 | |
| スパッタ成膜装置 | ||
| 真空蒸着装置 | 小型真空蒸着装置(ULVAC製) | 抵抗加熱式 |
| スピンコーター | 小型スピンコーター |
| 組織観察・構造解析 | 装置名 | 備考 | |
| TEM （透過型電子顕微鏡） | 電界放射型TEM (HITACHI製 HF-2000) | (工学研究科 技術部 合同分析室) 200kV, EDX | |
| TEM （透過型電子顕微鏡） | TEM (JEOL製) | (工学研究科 技術部 合同分析室) 200kV | |
| イオンミリング装置 | gatan製 PIPS | そのほかTEM試料作製用具一式あります | |
| イオンミリング装置 | (マテリアル開発系 電顕室) | ||
| SEM （走査型電子顕微鏡） | 電界放射型SEM （JEOL製） | (マテリアル開発系 ナノ加工室) EBSP-OIM 可 | |
| SEM （走査型電子顕微鏡） | SEM （Phillips製） | (マテリアル開発系 電顕室) EDX 可 | |
| FIB (収束イオンビーム加工装置) | （SEIKO Ins. Inc. 製） | (マテリアル開発系 ナノ加工室) | |
| 光学顕微鏡 | VHX-500(KEYENCE製) | 5000倍まで | |
| 共焦点レーザー顕微鏡 | TCS-NT （Leica） | (工学研究科 技術部 合同分析室) | |
| XRD (X線回折装置) | RINT （Rigaku製） | (マテリアル開発系 X線室)極点図の測定 | |
| XRD (X線回折装置) | （Philips製） | (マテリアル開発系 X線室) | |
| XRD (X線回折装置) | ADVANCE (BRUKER製) | (マテリアル開発系 X線室) | |
| 分析・評価 | 装置名 | 備考 | |
| XPS （X線光電子分光器） | Theta Probe (Termo VG Scientific製) | マテリアル開発系 SEARMS室 | |
| EPMA | マテリアル開発系 SEARMS室 | ||
| AES | マテリアル開発系 SEARMS室 | ||
| フーリエ変換赤外分光器 | FTIR-8400S（島津製作所） | 透過、ATR | |
| 分光光度計 | 紫外-可視（JASCO製） | ||
| 分光エリプソメトリー | |||
| AFM | |||
| ナノスクラッチ・インデンテーション試験機 | Hysitron製 | ||
| 小型引張試験機 | AUTO GRAPH [AG-I (10kN, 10N)] （島津製作所） | 非接触式伸び計, 空気圧式つかみ具 | |
| 小型疲労試験機 | （島津製作所） | ||
| 摩耗試験機 | |||
| 電気抵抗測定装置 | ４端針 | ||
| 超高真空 電気抵抗測定装置 | 昇温機構付, ４端針 | ||
| 高真空 電気抵抗測定装置 | プローブなど | ||
| 曲率測定装置 | レーザー式曲率測定装置 | 真空装置・加熱機能 付き | |
| 設備 | 装置名 | 備考 |
| ドラフトチャンバー | Fume Hood（ヤマト科学） | 薬品の使用等 |
| 簡易クリーンルーム | クラス1000、フォトリソグラフ一式(露光機、アライナーなど) |