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集合写真 (2012.7.5撮影)
*卒業生はこちらです。
博士課程学生 |
D3 |
尹 弼相 |
IGZO半導体の電極材料とTFT特性 |
齋藤 雄太 |
相変化材料の研究 |
小宮山 翔子 |
組織制御による優れたMultiPhaseCoating film |
D2 |
「 秉擇 |
バリア性を有する拡散バリア層の形成挙動の解明 |
李 子峰 |
太陽電池用透明導電膜と金属合金の界面反応 |
修士課程学生 |
M2 |
亀田 和也 |
トランジスタのためのシリサイド形成 |
黒川 温子 |
化学気相成長による金属薄膜の成膜 |
中野 秀昭 |
SiO2基板と金属の界面反応 |
M1 |
小川 由希子 |
窒素導入型ヘマタイト薄膜の作製 |
金 政植 |
太陽電池用Cu配線の電気的特性 |
土屋 慶幸 |
Cu-N-O薄膜の作製 |
羽根川 智 |
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学部4年生 |
B4 |
越路 健二郎 |
SiC基板とオーミック電極の機械的・熱的信頼性 |
斎藤 友大 |
Cu合金を用いた細線パターンのリフロー挙動 |
田辺 成俊 |
Cuペーストとシリコンおよび酸化物の反応挙動 |
土屋 朋生 |
Cr系炭硫化物薄膜の硬さ・耐摩耗特性・電気特性 |
西山 諒平 |
超格子GeTe/CuTe薄膜相変化メモリの開発 |
王 昊 |
化学気相成長法によるMnOxの形成と拡散バリア性 |
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このページについて |
このHPは 東北大学大学院 工学研究科 マテリアル・開発系 小池研究室 学生のページです。研究室のページはこちらです。
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研究室選びをしている3年生へ |
研究室説明会で使用したスライドです。研究室選びの参考にしてください。
pdfファイル(44.9MB)
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